網站首頁 產品系列 CVD系統/PECVD系統 CVD系統 石墨烯系統
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更新時間：2025-02-27
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1 石墨烯系統兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
2 石墨烯系統可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
3 使用計算機控制，可以設置多種生長參數
4 可以制備高質量，大面積石墨烯等碳材料，尺寸可達數厘米，研究動力學過程
5 沉積效率高；薄膜的成分精確可控，配比范圍大；厚度范圍廣，由幾百埃至數毫米，可以實現厚膜沉積且能大量生產
產品性：
PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產品組成：
PECVD系統配置：
1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質量流量控制系統
4.真空系統（可選配中真空或高真空）
產品特點：
生長溫度低；沉積速率快；成膜質量好，適用范圍廣，設備簡單。
